檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "王乃堅".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="自對準雙圖案微影技術"
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自動對準雙圖案微影技術(self-aligned double patterning lithography)是目前20奈米以下的主要微影技術之一,在微影技術的發展下,尺寸微小化使得雙圖案微影技術的…